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定义-纳米光刻是什么意思？
纳米光刻技术是纳米技术的一个分支，是在微观水平上压印，书写或蚀刻图案以创建难以置信的小结构的过程的名称。 此过程通常用于创建更小，更快的电子设备，例如微型/纳米芯片和处理器。 纳米光刻技术主要用于从电子到生物医学的各个技术领域。技术百科解释了纳米光刻
纳米光刻是一个广义术语，用于描述在不同介质上创建纳米级图案的各种过程，其中最常见的是半导体材料硅。 纳米平版印刷术的主要目的是缩小电子设备的尺寸，从而使更多的电子零件被塞入较小的空间，即，较小的集成电路产生较小的设备，由于所需材料较少，因此制造速度更快，成本更低。 这也增加了性能和响应时间，因为电子只需要传播很短的距离即可。
纳米光刻中使用的一些技术如下：
- X射线光刻-通过邻近印刷方法实现，并依赖于菲涅耳衍射中的近场X射线。 已知将其光学分辨率扩展到15nm。
- 双重图案化-一种用于通过在同一层中已印刷图案的空间之间印刷其他图案来提高光刻工艺的间距分辨率的方法。
- 电子束直写（EBDW）光刻-光刻中最常用的工艺，它使用电子束来形成图案。
- 极紫外（EUV）光刻-一种光学光刻的形式，利用13.5 nm的超短光波长。
